In der Halbleiterproduktion ist präzise Beleuchtung nicht nur eine Frage der Sichtbarkeit – sie ist produktionskritisch. Bei der Fotolithografie werden lichtempfindliche Fotolacke (Photoresists) auf Wafer aufgetragen, die bereits bei geringster UV-Exposition ungewollt aushärten oder ihre Strukturierbarkeit verlieren. Herkömmliche Beleuchtung enthält UV-Anteile, die diese Prozesse gefährden.
Gelblicht für die Halbleiterfertigung löst dieses Problem durch gezielte spektrale Filterung. Die Fotolithographie Beleuchtung arbeitet in einem eng definierten Wellenlängenbereich um 590 nm – im sogenannten Amber-Spektrum. Dieser Bereich bietet ausreichend Helligkeit für präzise Arbeitsabläufe, enthält jedoch keine kritischen UV-Anteile unter 500 nm, die photosensitive Materialien beschädigen könnten.
Besonders in Reinräumen der ISO-Klassen 5 bis 7, in denen Wafer bearbeitet, transportiert oder inspiziert werden, ist UV-sichere Beleuchtung unerlässlich.
DIANA Gelblicht Reinraumbeleuchtung erfüllt diese Anforderungen durch präzise Spektralkontrolle, homogene Ausleuchtung und vollständige Reinraumkompatibilität. Profitieren Sie dabei von jahrzehntelanger Erfahrung aus realen Halbleiter- und Reinraumprojekten: Unser Praxiswissen aus hunderten realisierten Anwendungen fließt direkt in die Entwicklung jeder Leuchte ein – ob Standardlösung oder kundenspezifische Integration.